HOME / ¹®¼¸¶ÄÏ / ¸®Æ÷Æ® / ±âŸ·¹Æ÷Æ®
¹ÝµµÃ¼ ±âÃʽÇÇè ¸®Æ÷Æ®(E-beamÀ» ÀÌ¿ëÇÑ ±Ý¼Ó ÁõÂø½ÇÇè) ÀÚ·áÀÔ´Ï´Ù
Àüü 3 page Áß 3 page±îÁö ¹Ì¸®º¸±â°¡ °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù.
¼Ò°³±Û
¹ÝµµÃ¼ ±âÃÊ ½ÇÇè ¸®Æ÷Æ® (E-beamÀ» ÀÌ¿ëÇÑ ±Ý¼Ó ÁõÂø½ÇÇè) ¿¡ ´ëÇؾ´ ·¹Æ÷Æ® ÀÔ´Ï´Ù
ÀúÀ۽ñâ : 2004³â 6¿ù
º»¹®³»¿ë
¹ÝµµÃ¼ ±âÃÊ ½ÇÇè ¸®Æ÷Æ®
(e-beamÀ» ÀÌ¿ëÇÑ ±Ý¼Ó ÁõÂø½ÇÇè)
½ÇÇè ¸û
e-baem evaporator¸¦ ÀÌ¿ëÇÏ¿© si wa
fer À§¿¡ ±Ý¼ÓÀ» ÁõÂøÇÏ¿©
Ç¥¸é±Ý¼ÓÀúÇ×°ú Àü±ØÀ» ÅëÇÑ siÀÇ ÀúÇ×À» ÃøÁ¤ÇÑ´Ù.
½ÇÇè ¿ø¸®
high energy¸¦ °¡Áø ÀüÀÚ beamÀ» ¸¸µé°í
À̸¦ target material¿¡
±Ý¼ÓÀ» eaporate ½ÃŲ´Ù.eaporate µÈ ±Ý
¼Ó ¹°ÁúÀÌ si wafer Ç¥¸é¿¡
´Þ¶óºÙ°Ô ÇÏ¿© ±Ý¼Ó ¹Ú¸·À» ÁõÂø ½ÃŲ´Ù.
½ÇÇè °á°ú
½Ã ·á
¹øÈ£
½ÇÇèÀÏÀÚ
target
material
rate
(¡Ê/sec)
Áõ Âø
½Ã °£
voltage
Áõ Âø
µÎ ²²
¿¹ »ó
µÎ ²²
µÎ ²²
Â÷ ÀÌ
¾î³Î¸µ (ÀÌÇÏ »ý·«)
Âü°í¹®Çå
¾øÀ½
¹ÞÀº º°Á¡
0/5
0°³ÀÇ º°Á¡
¹®¼°øÀ¯ ÀڷḦ µî·ÏÇØ ÁÖ¼¼¿ä.
¹®¼°øÀ¯ Æ÷ÀÎÆ®¿Í Çö±ÝÀ» µå¸³´Ï´Ù.
Æ÷ÀÎÆ® : ÀÚ·á 1°Ç´ç ÃÖ´ë 5,000P Áö±Þ
Çö±Ý : ÀÚ·á 1°Ç´ç ÃÖ´ë 2,000¿ø Áö±Þ
ÀúÀÛ±Ç Á¤º¸
À§ Á¤º¸ ¹× °Ô½Ã¹° ³»¿ëÀÇ Áø½Ç¼º¿¡ ´ëÇÏ¿© ¾ÅÅ©Á¸Àº º¸ÁõÇÏÁö ¾Æ´ÏÇϸç, ÇØ´ç Á¤º¸ ¹× °Ô½Ã¹° ÀúÀ۱ǰú ±âŸ ¹ýÀû Ã¥ÀÓÀº ÀÚ·á µî·ÏÀÚ¿¡°Ô ÀÖ½À´Ï´Ù.
À§ Á¤º¸ ¹× °Ô½Ã¹° ³»¿ëÀÇ ºÒ¹ýÀû ÀÌ¿ë, ¹«´Ü ÀüÀ硤¹èÆ÷´Â ±ÝÁöµÇ¾î ÀÖ½À´Ï´Ù.
ÀúÀÛ±ÇħÇØ, ¸í¿¹ÈÑ¼Õ µî ºÐÀï¿ä¼Ò ¹ß°ß½Ã °í°´¼¾ÅÍÀÇ ÀúÀÛ±Ç Ä§ÇØ½Å°í¸¦ ÀÌ¿ëÇØ Áֽñ⠹ٶø´Ï´Ù.
ºê·£µå Á¤º¸
±¹³» ¹®¼¼½Ä ºÐ¾ß ·©Å° 1À§ÀÎ ¿¹½ºÆûÀº ȸ»ç¼½Ä, ¹ý·ü¼½Ä, »ýÈ°¼½Ä, ±³À°¼½Ä, ÇàÁ¤¼½Ä, ¿µ¹®¼½Ä, µðÀÚÀμ½Ä, ¿¢¼¿¼½Ä, ÆÄ¿öÆ÷ÀÎÆ® µî ½Ç¿ëÀûÀÌ¸ç ´Ù¾çÇÑ ¹®¼¼½Ä ÀڷḦ Á¦°øÇÏ°í ÀÖ½À´Ï´Ù.
ÆǸÅÀÚ·á ¼ö : 23,364°Ç