HOME / ¹®¼°øÀ¯ / ¸®Æ÷Æ®/³í¹® / ±â¼ú°øÇÐ
0
µî·ÏÀÚ
ky*****
µî±Þº° ÇýÅú¸±â
¹ÝµµÃ¼ÀÇ Ä³¸®¾î ³óµµ¿¡ ´ëÇØ ±â¼úÇÑ ¸®Æ÷Æ® Âü°íÀÚ·áÀÔ´Ï´Ù.
¹ÝµµÃ¼°øÁ¤°¡½º Çã¿ë³óµµ¿Í Ư¡
¹ÝµµÃ¼³»ÀÇ Ä³¸®¾î¿Í Àüµµ
¹ÝµµÃ¼»ê¾÷ÀÇ ½ÃÀå±Ô¸ð¿Í ÁÖ¿ä¹ÝµµÃ¼ ÀÀ¿ëÁ¦Ç°
¹ÝµµÃ¼»ê¾÷ º¯È¿Í ´ëÀÀ
ºñ¸Þ¸ð¸® ¹ÝµµÃ¼Ä¨ Á¦Á¶¾÷ü ÅõÀÚÁ¦¾È¼
¼¼°è¹ÝµµÃ¼ ½ÃÀå ¼Ó ¿ì¸® ±â¾÷ÀÇ ½ÃÀåÁ¡À¯À²
¹ÝµµÃ¼ÀÇ Á¤ÀÇ¿Í ¹ßÀüÇöȲ
¹ÝµµÃ¼±³À°ÀÚ·á
»ï¼ºÀüÀÚÀÇ ¹ÝµµÃ¼»ç¾÷ÀÇ ¹ßÀü°úÁ¤°ú ¼º°øÀü·«
¹ÝµµÃ¼¼³°è Àç»êÁøÈï¼¾ÅÍ ¿î¿µ¹æ¾È ¿¬±¸ º¸°í¼
¹ÝµµÃ¼ÀÇ Æ¯¼º°ú ¿ªÇÒ
±¤Åë½Å°ú ¹ÝµµÃ¼°øÁ¤ ¹× ¼ÒÀÚ °³·Ð
2019³â ¾î¸°ÀÌÁý¿ë °í³óµµ ¹Ì¼¼¸ÕÁö ´ëÀÀ¸Å´º¾ó
¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶ °øÁ¤
¹ÝµµÃ¼ ·¹ÀÌÀú
¸ô³óµµ ¸ô¶ö³óµµ %³óµµ
¹ÝµµÃ¼ÀÇ ¼ÒÀç¿Í Á¾·ù
»ï¼ºÀüÀڹݵµÃ¼ »ç¾÷ÀÇ È¯°æ
¹ÝµµÃ¼¹°·ùÀ¯Åë ÇöȲ ¹× °³¼±¹æÇâ º¸°í¼
¹ÝµµÃ¼»ê¾÷ÀÇ Á¤ÀÇ¹× Æ¯Â¡
¹ÝµµÃ¼ »ê¾÷¿¡¼ÀÇ 5 force
¹ÝµµÃ¼ ±¤ÁõÆø±â¸¦ À§ÇÑ ±¤µµÆÄ·ÎÀÇ ¼³°è Á¦ÀÛ¹× ÃøÁ¤ ¿¬±¸º¸°í¼
¹ÝµµÃ¼»ê¾÷ÀÇ ±Ô¸ðÀÇ °æÁ¦Çѱ¹ ¹ÝµµÃ¼ »ê¾÷ÀÇ °æÀï·Â
¹ÝµµÃ¼»ê¾÷
»ï¼ºÀüÀڿ͹ݵµÃ¼
¸ô³óµµ¿Í ³ë¸£¸»³óµµ ½ÇÇè º¸°í¼
¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶ ÀÚ±â¼Ò°³¼ÇÏÀ̴нº¹ÝµµÃ¼½ÅÀÔ
ÀüÀÚ°øÇÐ-¹ÝµµÃ¼°øÁ¤
¹ÝµµÃ¼ ¼ÒÀçÀÇÁ¾·ù ¹× Ư¼º
°íü¹°¸®ÇйݵµÃ¼
¹ÝµµÃ¼·¹ÀÌÀú ´ÙÀÌ¿Àµå
Àü¹ÝÀûÀÎ ¹ÝµµÃ¼ »ý¼º°øÁ¤°ú ±â°è°øÇÐ
ÈÇÕ¹° ¹ÝµµÃ¼ Á¾·ù¿Í Á¤ÀÇ
¹ÝµµÃ¼È¸»ç ¿µ¾÷ ¸¶ÄÉÆà ºÐ¾ß °æ·Â±â¼ú¼Çؿܸ¶ÄÉÆà 2³â °æ·Â
°úÇаú ±³¼öÇнÀ Áöµµ¾È[³óµµ¿Í ÆÛ¼¾Æ®³óµµ]
¹ÝµµÃ¼»ê¾÷ ÇöȲ¹× Àü¸Á2009
½ÄÇ°ºÐ¼®ÇÐ ½ÇÇè-¿ë¾×ÀÇ ³óµµ°è¼ö ÃøÁ¤
¿ì¸®³ª¶ó °£Ã´Áö Åä¾çÁ¶»ç¿Í ÁÖ¿ä °£Ã´ÁöÀÇ Åä¾ç ¿°³óµµ ºÐÆ÷ Ư¼º
¹ÝµµÃ¼°øÁ¤±âÃâ¹®Á¦
¹ÝµµÃ¼°øÁ¤À» ÀÌ¿ëÇÑ ÆòÆÇÇü ´ÙÁ߹̼¼Àü±ØÀÇ Á¦ÀÛ
¹ÝµµÃ¼´ÙÀÌ¿ÀµåÀÇ Æ¯¼º ½ÇÇè º¸°í¼
Æ÷Å丮¼Ò±×·¡ÇÇ¿¡ °üÇÑ Á¶»ç[Æ÷Å丮¼Ò±×·¡ÇÇÀÇ ¿ø¸®
¹ÝµµÃ¼ ÀåÄ¡ Á¦¾î ½Ã½ºÅÛ º¸°í¼
¼ö¼ÒÀÌ¿Â³óµµ ½ÃÇè¹ý »çÀüº¸°í¼
¹ÝµµÃ¼ ´ÙÀÌ¿Àµå
¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤ º¸°í¼DIFFUSION
¹ÝµµÃ¼ ´ÙÀÌ¿ÀµåÀÇ Æ¯¼º
¹ÝµµÃ¼ Àç·á°ü·Ã â¾÷ ÃÊâ±â ȸ»ç»ç¾÷°èȹ¼
³óµµ¿¡ µû¸¥ ÀÀ°á¼Óµµ Ž±¸ º¸°í¼
¹ÝµµÃ¼´ÙÀÌ¿Àµå ½ÇÇè º¸°í¼
¹ÝµµÃ¼Á¦Á¶°øÁ¤ ¾È³»
¹ÝµµÃ¼°øÁ¤¼ø¼ ¹× ¼³¸í¼
¹ÝµµÃ¼Àü°ø½ÃÇè
¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤ º¸°í¼
¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶°øÁ¤
¹ÝµµÃ¼ METAL°øÁ¤
¹ÝµµÃ¼¹°¼º½ÇÇè ALPHA STEP
¼¿ï¹ÝµµÃ¼ÀÇ ¼º°ø¿äÀÎ
¹ÝµµÃ¼ÀÇ¿ø¸®
¹ÝµµÃ¼ ´ÙÀÌ¿Àµå ½ÇÇè º¸°í¼
¹ÝµµÃ¼Á¦Á¶°øÁ¤ ¼³¸í¼
¹ÝµµÃ¼´ÙÀÌ¿Àµå
¹ÝµµÃ¼ºÎÇ° ¸ÅÃâ ´ëºñ ¼ÕÀÍ
¿ë¾×ÀÇ ³óµµ°áÁ¤ °á°úº¸°í¼
¹ÝµµÃ¼´ÙÀÌ¿Àµå Ư¼º ½ÇÇè º¸°í¼
¼ö¼ÒÀÌ¿Â³óµµ Âü°íÀÚ·á
¹ÝµµÃ¼¼ÒÀÚ ¼³°èº¸°í¼
¾îº¸ºê ¹ÝµµÃ¼±â¾÷ ºÐ¼®º¸°í¼
ž籤 ¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤±³À°
¹ÝµµÃ¼ ´ÙÀÌ¿Àµå ½ÇÇè º¸°í¼2
¹ÝµµÃ¼ ¼ÒÀÚ Æ¯¼º°î¼±
¹ÝµµÃ¼Semiconductor °øÁ¤±â¼ú
³óµµ¿Í Àå·Â¿¡ µû¸¥ ¸éÁ÷¹°ÀÇ ¸Ó¼È°¡°ø È¿°ú º¸°í¼
¹ÝµµÃ¼ °øÇÐ ¹Ú¸· µÎ²² ÃøÁ¤¹ý º¸°í¼
¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶°øÁ¤°ú ½Ç¸®ÄÜ ¿þÀÌÆÛ°øÁ¤
¹ÝµµÃ¼ ¹èÄ¡¼³°è±Ç ¼³Á¤µî·ÏÁ¦µµÀÇ È¿À²Àû ¿î¿µ¹æ¾È¿¬±¸ º¸°í¼
¹ÝµµÃ¼ÀÇ ÀÌÇØ»çÁø°øÁ¤ »êÈ°øÁ¤
ÇÚµåÆù ¹× ¹ÝµµÃ¼ ºÎÇ° »ý»ê¾÷üȸ»ç¼Ò°³¼
¹ÝµµÃ¼°øÁ¤º¸°í¼ ION IMPLANTATION
¹ÝµµÃ¼Á¦Á¶°øÁ¤
¹ÝµµÃ¼ ÀÌÀü °øÁ¤°ú CVD °øÁ¤
¹ÝµµÃ¼¼ÒÀÚ Æ¯¼º º¸°í¼
¹ÝµµÃ¼ ±¤ ÁõÆø±â¸¦ ÀÌµæ ¹°Áú·Î ÇÏ´Â ±¤¼¶À¯°ÝÀÚ ·¹ÀÌÀúÀÇ ´ÙÁßÈ µÈ ½ºÆ®·¹ÀÎ ¼¾¼·ÎÀÇ ÀÀ¿ë ¿¬±¸º¸°í¼
¹ÝµµÃ¼°øÁ¤ ¿ë¾îÁý
¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶°øÁ¤¹Ú¸·ÁõÂø°øÁ¤
¹ÝµµÃ¼¼ÒÀÚ º¸°í¼
¹ÝµµÃ¼ ±â¼ú»ç¾÷ °èȹ¼
¹ÝµµÃ¼ ¼¼¶ó¹Í½º
¹ÝµµÃ¼ Àåºñ¿ë MFC
¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶ °øÁ¤2
¹ÝµµÃ¼ Áø°øÀåºñ
¹ÝµµÃ¼°øÁ¤º¸°í¼ THERMAL OXIDATION OF SILICON
°ú»êȼö¼Ò³óµµ ÃøÁ¤ ½ÇÇ躸°í¼
¹ÝµµÃ¼°øÁ¤º¸°í¼ LITHOGRAPHY
¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶ °øÁ¤ flow
¹ÞÀº º°Á¡
0/5
0°³ÀÇ º°Á¡
¹®¼°øÀ¯ ÀڷḦ µî·ÏÇØ ÁÖ¼¼¿ä.¹®¼°øÀ¯ Æ÷ÀÎÆ®¿Í Çö±ÝÀ» µå¸³´Ï´Ù.
Æ÷ÀÎÆ® : ÀÚ·á 1°Ç´ç ÃÖ´ë 5,000P Áö±Þ
Çö±Ý : ÀÚ·á 1°Ç´ç ÃÖ´ë 2,000¿ø Áö±Þ
ÈıâÀÛ¼º»ç¿ëÈı⸦ ÀÛ¼ºÇÏ½Ã¸é ¹®¼°øÀ¯ 100 point¸¦ Àû¸³ÇØ µå¸³´Ï´Ù.
0/120
»ç¿ëÈıâ (0)
µî·ÏµÈ ¸®ºä°¡ ¾ø½À´Ï´Ù.
ù¹ø° ¸®ºä¾î°¡ µÇ¾îÁÖ¼¼¿ä.
¾ÆÀ̵ð ã±â°¡ µÇÁö ¾Ê´Â´Ù¸é °í°´¼¾ÅÍ·Î ¿¬¶ôÁֽñ⠹ٶø´Ï´Ù.
ÀÔ·ÂÇϽŠÁ¤º¸·Î °¡ÀÔµÈ ¾ÆÀ̵𰡠¾ø½À´Ï´Ù.
ºñ¹Ð¹øÈ£ ã±â°¡ µÇÁö ¾Ê´Â´Ù¸é °í°´¼¾ÅÍ·Î ¿¬¶ôÁֽñ⠹ٶø´Ï´Ù.