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1장 Color TFT-LCD의 양산 Color TFT-LCD 제조기술
2장 TFT-Array 공정기술
1. 세정 기술
2. 박막 형성기술
3. Photolithography 기술
4. 박막 Etching 기술
5. 검사기술
3장 TFT-Array 패널 제조공정
1. Etch-back type TFT-Array 제조공정
2. Etch-stopper type TFT-Array 제조공정
* * * * * * * * * * * * * color tft-lcd 제조기술 및 공정 매뉴얼 glass 기판 ⑥ pixel ito ① gate (cr) ⑦source/drain (cr) ③ a-si
(8)보호막 (sin)
② gate 절연막 (sinx) ⑤ n a-si ④ e/s (sin) color tft-lcd 제조기술
1.color tft-lcd의 양산 color tft-lcd 제조기술
2.tft-array 공정기술
8.2.1 세정 기술
8.2.2 박막 형성기술
8.2.3 photolithography 기술
8.2.4 박막 etching 기술
8.2.5 검사기술
3.tft-array 패널 제조공정
8.3.1 etch-back type tft-array 제조공정
8.3.2 etch-stopper type tft-array 제조공정
tft-lcd 생산성 향상-> 기판 크기 증가
yield89.7%(35/39)
yield96.2%(xxxx.xx.xx)
chip size 축소와 생산성 향상 (c-si 반도체) net die: 39 net die: 104 yield50% 기판 size 증대와 생산성 향상 (tft-lcd) 4panel/glass
yield66.7%
6panel/glass
yield83.3%
12panel/glass 900 800 700 600 500 400 300 400 500 600 700 800 900 1 1100 21”x6 21”x4 17”x6
12.1”x 4
11.3”x4
10.4”x4
8.4” x4
1st 2nd 3rd (mm) (mm) (source : nikkei micro device march 1997) 730 920 550 650 410 520 400 500 370 470 320 400 600 720 14”x6 650 830
12.1”x9
14.1”x9
3.5 th
4 th (이하 생략)
